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Bitte denken Sie daran, sich im Zeitraum 01. - 16.06.2019 für den ersten Prüfungstermin, bzw. 01. - 18.08.2019 für den zweiten Prüfungstermin über das LSF anzumelden!

Die Anmeldung im Prüfungsamt zur mündlichen Prüfung ist nur im ersten Anmeldezeitraum möglich. Die Findung der Prüfungstermine erfolgt in direkter Absprache mit dem Dozenten. Die Prüfungstermine können sowohl im ersten als auch zweiten Prüfungszeitraum liegen.

Termin

montags  16.00-19.00 Uhr

Ort

Raum D221

Inhalt - Einführung
- Kristallziehverfahren und Herstellung von Wafern
- Oxidationsverfahren
- Lithographie
- Ätzverfahren
- Legierung und Diffusion
- Ionenimplantation
- CVD-Depositionsverfahren
- Epitaxie
- Physikalische Depositionsverfahren

- MOS- und CMOS-Prozesse



Downloads zur Vorlesung finden sich unter

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