Die Methode:
TEM-Abbildung von Chipstüte im Querschnitt (Ultradünnschnitt)
(TEM = Transmission Electron Microscopy)
Verfahren zur Strukturabbildung in dünnen Probenschnitten, das Informationen über Schicht- Morphologie, Gefüge, Kristalldefekte, und Grenzflächenverlauf bei Werkstoffen oder Dünnschichtsystemen liefert. Untersuchungen von Ausscheidungen, Stapelfehlern, Versetzungen oder Texturen mit extrem hoher Ortsauflösung. Durch Mikrotomschnitte, Ionenstrahldünnung bzw. elektrolytische Dünnung müssen die Proben auf eine geringe Dicke (Bereich < 100 nm) gedünnt werden. Im Gegensatz zur Rasterelektronenmikroskopie wird das Probenmaterial mit hochenergetischen Elektronen durchstrahlt. Elektronenoptische Linsensysteme erzeugen mit diesen Elektronen eine stark vergrößerte Hell- oder Dunkelfeldabbildung. Elektronenbeugungsaufnahmen liefern darüberhinaus Informationen über die Kristallstruktur der Probe.
Unsere Geräteausstattung:
CM12 der Fa. Philips (FEI) mit LaB6- Kathode und "keenview-Kamera" der Fa. Olympus-SIS sowie EDX-Analyse-System "DX4" der Fa. EDAX